[发明专利]一种具有新型纳米多层结构的薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201611012186.8 申请日: 2016-11-17
公开(公告)号: CN106521435B 公开(公告)日: 2019-04-09
发明(设计)人: 白文琦;涂江平;王秀丽;金攻;李瑞玲;李玲玲;谢跃军 申请(专利权)人: 中奥汇成科技股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/18;A61L27/30;A61L27/06
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 11252 代理人: 王立民;江怀勤
地址: 100176 北京市大兴区经济*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种具有新型纳米多层结构的薄膜及其制备方法,纳米多层结构的薄膜由依次沉积在基体上的锆底层及锆‑氮化锆‑碳多层结构构成。其中,锆底层厚度为200‑300nm,可提高薄膜的承载能力及与金属基底的结合力。锆‑氮化锆‑碳多层结构由锆单层、氮化锆单层及非晶碳单层构成,其中“氮化锆单层‑锆单层‑非晶碳单层‑锆单层”组成一个重复单元,多层结构由若干个重复单元构成。多层结构中,锆单层为密排六方结构,氮化锆单层为面心立方结构。纳米多层的薄膜具有高承载能力、高耐腐蚀及高耐磨的特点,并具有良好的生物相容性,在金属关节领域具有应用前景。
搜索关键词: 一种 具有 新型 纳米 多层 结构 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有新型纳米多层结构的薄膜,其特征在于:包括在金属关节头表面自下而上依次沉积的锆底层及纳米多层结构,所述纳米多层结构为锆‑氮化锆‑碳多层结构;所述纳米多层结构包括多个重复单元,每个所述重复单元自下而上依次包括氮化锆单层、锆单层、非晶碳单层及锆单层。
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