[发明专利]鳍状场效晶体管器件在审
| 申请号： | 201611014865.9 | 申请日： | 2016-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN106887462A | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | 张哲诚;林志翰;曾鸿辉 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78;H01L21/336 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 马雯雯,臧建明 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种鳍状场效晶体管器件，包括衬底、至少一栅极堆叠结构、多个间隔物以及源极与漏极区域。栅极堆叠结构配置在衬底上，且多个间隔物配置在栅极堆叠结构的侧壁上。源极与漏极区域配置于衬底内，且分设在栅极堆叠结构的相对侧。具有接触开口的介电层配置在衬底的上方，并覆盖栅极堆叠结构。金属连接结构配置于接触开口内，并连接至源极与漏极区域，且黏着层夹置于接触开口以及位于接触开口内的金属连接结构之间。 | ||
| 搜索关键词： | 鳍状场效 晶体管 器件 | ||
【主权项】：
一种鳍状场效晶体管器件，其特征在于，包括：衬底；至少一栅极堆叠结构，配置在所述衬底上；多个间隔物，配置在所述至少一栅极堆叠结构的侧壁上；源极与漏极区域，配置于所述衬底内且分设在所述至少一栅极堆叠结构的相对侧；介电层，配置在所述衬底的上方以及所述至少一栅极堆叠结构上，其中所述介电层包括暴露出所述源极与漏极区域的至少一接触开口；至少一鞘结构，配置于所述至少一接触开口内；以及至少一金属连接结构，配置于所述至少一鞘结构以及所述至少一接触开口内，其中所述至少一金属连接结构连接至所述源极与漏极区域。
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