[发明专利]OLED基板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201611015034.3 申请日: 2016-11-15
公开(公告)号: CN106449718A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 王杲祯 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂;闻盼盼
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种OLED基板及其制作方法。本发明的OLED基板的制作方法,通过采用无机物材料制作像素定义层,能够降低光阻剥离制程中像素定义层被误剥离的风险,同时降低蒸镀制程中精细金属掩膜板被污染的风险,提高精细金属掩膜板的使用效率。本发明的OLED基板,采用上述OLED基板的制作方法制备而成,像素定义层结构完整,能够有效保护下方阳极及衬底基板,器件性能好。
搜索关键词: oled 及其 制作方法
【主权项】:
一种OLED基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供一衬底基板(10),在所述衬底基板(10)上形成间隔设置的数个阳极(20);在所述衬底基板(10)及数个阳极(20)上沉积一无机膜层(80);步骤2、采用半色调光罩(85)对所述无机膜层(80)进行图形化处理,得到像素定义层(30)、设于所述像素定义层(30)上的数个间隔物(50)、及设于所述像素定义层(30)上且分别对应于所述数个阳极(20)的数个开口(31),每个开口(31)暴露出对应的阳极(20)的至少一部分,制得第一基板(91);步骤3、在所述第一基板(91)上涂布一光阻层(95),所述光阻层(95)覆盖所述像素定义层(30)、数个间隔物(50)、及阳极(20);对所述涂布光阻层(95)的第一基板(91)进行切割,得到数个第二基板(92);步骤4、对所述第二基板(92)上的光阻层(95)进行剥离,得到第三基板(93);步骤5、在所述第三基板(93)上的数个开口(31)内从下到上依次形成空穴注入层(41)、空穴传输层(42)、有机发光层(43)、电子传输层(44)、电子注入层(45)、及阴极(46),制得一OLED基板(60)。
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