[发明专利]一种磁控溅射制备高质量铁酸铋铁电光伏薄膜的方法在审
申请号: | 201611020065.8 | 申请日: | 2016-11-21 |
公开(公告)号: | CN108085650A | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 莫镜辉;杨雯;杨培志;刘黎明;李学铭 | 申请(专利权)人: | 云南师范大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650500 云南省昆*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明提供一种制备高质量铁酸铋(BFO)铁电光伏薄膜的方法,具体步骤为:采用镧系元素掺杂的BFO陶瓷靶材,将清洗后的FTO/玻璃衬底装入真空腔室,调节样品台与靶台间距为50~150mm;当本底真空度优于8×10‑4Pa,按气体流量比O2/Ar为1/10~1/4通入O2和Ar使工作压强为1~10Pa,分别设置射频电源的功率为10~100W,样品台的自转速度为5~15rpm,预溅射5~15min,根据BFO薄膜厚度设定溅射时间;溅射结束后继续通入Ar惰性保护气体对BFO薄膜进行原位退火处理,加热温度为300~600℃,保温时间为30~180min。本发明为物理气相沉积法,采用常规磁控溅射系统制备BFO铁电光伏薄膜,工艺可控性强,适用性广,易于大规模生产,为开发基于BFO铁电光伏薄膜的太阳能电池开辟了一种新的途径。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 电光 制备 铁酸铋 样品台 溅射 物理气相沉积法 磁控溅射系统 惰性保护气体 本底真空度 工艺可控性 气体流量比 太阳能电池 磁控溅射 工作压强 厚度设定 射频电源 陶瓷靶材 原位退火 真空腔室 镧系元素 掺杂的 预溅射 自转 靶台 衬底 加热 装入 保温 清洗 玻璃 开发 | ||
【主权项】:
1.一种磁控溅射制备高质量铁酸铋铁电光伏薄膜的方法,其特征在于,包括以下主要步骤:(1)将镧系元素掺杂的铁酸铋(BFO)陶瓷靶材和清洗后的衬底分别固定在射频溅射靶台和样品台上,调整样品台与靶台间距到所需范围;(2)真空腔室抽真空至本底真空度,按比例通入O2 、Ar,并调节其流量,使真空腔的压强至需要的工作压强数值;(3)打开射频电源,设定所需溅射功率,启动样品台的自转,先进行一定时间的预溅射,然后根据沉积薄膜的厚度需要,设定溅射时间,开始溅射;(4)溅射结束,关闭射频电源,关闭O2 ,真空腔室继续通入Ar作为惰性保护气体,设定样品台加热温度和保温时间,启动样品台加热电源,在Ar气氛下对所制备的BFO薄膜进行原位退火处理,退火处理结束后让样品自然冷却至室温再取出真空腔室。
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