[发明专利]一种低介电常数二乙炔基聚合物、其制备方法及其用途有效
| 申请号： | 201611024682.5 | 申请日： | 2016-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN106496529B | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 杨光;申洪岩;王哲 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12;C08G61/02 |
| 代理公司： | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人： | 刘元霞 |
| 地址： | 100191 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种二乙炔基聚合物、其制备方法及其用途。本发明所述的聚合物不仅具有低介电常数，而且热稳定性好，固化温度低，可作为耐高温材料、疏水材料以及电子电气行业电子元器件的封装材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 介电常数 乙炔 聚合物 制备 方法 及其 用途 | ||
【主权项】：
1.一种二乙炔基聚合物，其特征在于：所述聚合物包含衍生自如下炔丙基醚单体的结构单元：![]()
以及一种或多种衍生自下列共聚单体的结构单元：![]()
其中：R1和R2相同或者不同，且彼此独立地为非极性基团；R3为：![]()
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R4和R5相同或不同，且彼此独立地为非极性基团；条件是R4和R5不与R1和R2完全相同。
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