[发明专利]消除氧气对光固化影响的方法、系统、装置及光固化设备在审
| 申请号： | 201611025334.X | 申请日： | 2016-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN108081597A | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 许小曙;李清;杨超;杨琢 | 申请（专利权）人： | 湖南华曙高科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B29C64/135 | 分类号： | B29C64/135;B29C64/371;B33Y30/00;B33Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 410205 湖南省长沙*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 一种消除氧气对光固化影响的方法、系统、装置及光固化设备，其中方法包括：向腔体充入第一气体；当检测到腔体中的氧气低于预设值时，停止向腔体充入第一气体，同时向腔体中的工作平面上方充入第二气体；第一气体和第二气体均为能够消除氧气对光固化反应过程影响的气体，且第二气体小于第一气体的充入流量值，本发明消除氧气对光固化影响的方法、系统、装置及光固化设备先通过流量值较大的第一气体的充入尽量将氧气排除干净，而在后续工作过程，通过向腔体中的工作平面上方直接充入流量值较小的第二气体，避免了氧气对光敏树脂表面造成影响，因此，本发明不仅保证了光固化效果，而且充分利用了氮气，同时节约了氮气使用量。 | ||
| 搜索关键词： | 氧气 腔体 光固化设备 固化 氮气 工作平面 固化反应过程 光敏树脂 氧气排除 光固化 预设 检测 节约 保证 | ||
【主权项】：
1.一种消除氧气对光固化影响的方法，其特征在于，包括：向腔体充入第一气体；当检测到腔体中的氧气低于预设值时，停止向腔体充入第一气体，同时向腔体中的工作平面上方充入第二气体；其中，第一气体和第二气体均为能够消除氧气对光固化反应过程影响的气体，且第二气体的充入流量值小于第一气体的充入流量值。
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