[发明专利]一种防掩膜板划伤系统及曝光系统有效
申请号: | 201611027411.5 | 申请日: | 2016-11-18 |
公开(公告)号: | CN106353973B | 公开(公告)日: | 2018-09-11 |
发明(设计)人: | 刘庭良;曹中林;冯远明;周刚 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 周娟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种防掩膜板划伤系统及曝光系统,涉及显示技术领域,以在防止曝光过程中基板表面的异物划伤掩膜版的问题,并降低掩膜板的修复成本。该防掩膜板划伤系统利用扫描单元用于扫描处在曝光状态的基板表面的异物高度;检测单元用于判断处在曝光状态的基板表面是否存在高度大于预设高度的异物,如果是,则停止曝光基板,如果否,则继续曝光基板;其中,预设高度小于掩膜板所在高度到基板所在高度的高度差。所述曝光系统包括上述技术方案所提的防掩膜板划伤系统。本发明提供的防掩膜板划伤系统用于基板曝光。 | ||
搜索关键词: | 一种 防掩膜板 划伤 系统 曝光 | ||
【主权项】:
1.一种防掩膜板划伤系统,其特征在于,包括扫描单元以及与扫描单元的输出端相连的检测单元;所述扫描单元用于扫描处在曝光状态的基板表面的异物高度;所述检测单元用于判断处在曝光状态的基板表面是否存在高度大于预设高度的异物,如果是,则停止曝光基板,如果否,则继续曝光基板;其中,预设高度小于掩膜板所在高度到基板所在高度的高度差;所述扫描单元包括信号发生模块和信号接收模块,所述检测单元包括信号比对模块和异物高度确定模块;所述信号发生模块用于发出扫描基板表面异物的扫描信号;所述信号接收模块用于接收扫描信号;所述信号比对模块用于比对发出的扫描信号和接收的扫描信号,以判断信号发生模块发出的扫描信号是否存在没有被信号接收模块接收的部分,如果信号发生模块发出的扫描信号没有被信号接收模块接收的部分,则处在曝光状态的基板表面存在异物;所述异物高度确定模块用于根据信号发生模块发出的扫描信号没有被信号接收模块接收的部分,确定所述异物的高度,判断所述异物的高度是否大于等于预设高度。
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