[发明专利]一种大功率IGBT器件的制造方法有效
申请号: | 201611029456.6 | 申请日: | 2016-11-22 |
公开(公告)号: | CN106449403B | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 王汉清 | 申请(专利权)人: | 青岛佳恩半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/331 | 分类号: | H01L21/331 |
代理公司: | 武汉聚信汇智知识产权代理有限公司 42258 | 代理人: | 沙莎 |
地址: | 266000 山东省青*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种大功率IGBT器件的制造方法,采用散热通道进行流体工质的整体性散热,提高散热效率;通过使用整体性的注塑壳体保证密封性,防止腐蚀;金属载片的使用可以一定程度的屏蔽外界电磁干扰;散热硅胶中分布有金属颗粒,可以保证芯片上部的快速散热。 | ||
搜索关键词: | 一种 大功率 igbt 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种大功率IGBT器件的制造方法,包括以下步骤:(1)提供临时载板,在临时载板上实施注塑树脂的注塑工序,用注塑树脂将一金属载片完全包围,所述金属载片是由一个底壁和四个侧壁围成的长方体腔,金属载片的四个侧壁的高度大于或等于多个大功率芯片的最大高度;(2)将所述注塑树脂固化成型,经过磨削工序得到长方体形状的注塑树脂固化体;(3)在所述注塑树脂固化体中形成一芯片容置腔体和多个散热通道以形成注塑壳体,所述芯片容置腔体由一个底壁和四个侧壁围成的长方体腔,所述金属载片固定设置于所述芯片容置腔体的底面上,并部分嵌入所述芯片容置腔体的四个侧壁中,所述散热通道用于流通有散热工质,使得每个所述多个散热通道的所述散热工质与所述金属载片的下表面接触;(4)将多个大功率芯片通过绝缘导热胶固定于所述金属载片上,所述多个大功率芯片的多个引脚折弯90度后从所述注塑壳体的顶面伸出;(5)用散热硅脂填满所述芯片容置腔体,并与注塑壳体的顶面共面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛佳恩半导体有限公司,未经青岛佳恩半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611029456.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具体石墨烯散热结构的功率器件的制造方法
- 下一篇:半导体结构及其形成方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造