[发明专利]一种用于粒子治疗的扫描照射方法、装置和治疗头

摘要

本发明提供一种用于粒子治疗的扫描方法、装置和治疗头。根据本发明的方法，包括a获取所述待照射对象的照射点分布信息；b基于所述照射点分布信息，来确定当前扫描路径；c根据所述当前扫描路径进行扫描；d在未满足预定终止条件时，基于所述当前扫描路径执行优化操作，以获得优化扫描路径，并将所述优化扫描路径作为当前扫描路径，重复执行所述步骤c、d。本发明优点在于通过对同一照射层采用不同的扫描路径进行多次扫描，能够有效地消除剂量不均衡的问题，并且通过对扫描路径的优化，缩短了路径长度，减少了治疗所需时间，减少了对设备电源的需求，并且，优化后的路径降低了对磁铁大角度偏转的要求，提高了整个运行效率。

主权项

一种用于粒子治疗的扫描照射方法，其中，对于每层待照射对象，所述方法包括以下步骤：a获取所述待照射对象的照射点分布信息；b基于所述照射点分布信息，来确定当前扫描路径；c根据所述当前扫描路径进行扫描；d在未满足预定终止条件时，基于所述当前扫描路径执行优化操作，以获得优化扫描路径，并将所述优化扫描路径作为当前扫描路径,重复执行所述步骤c、d。