[发明专利]一种光还原法制备石墨烯基平面化微型超级电容器的方法在审
| 申请号： | 201611039386.2 | 申请日： | 2016-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN108074752A | 公开（公告）日： | 2018-05-25 |
| 发明（设计）人： | 吴忠帅;孙承林;王森;包信和;郑双好;周锋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | H01G11/84 | 分类号： | H01G11/84 |
| 代理公司： | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人： | 郑虹 |
| 地址： | 116023 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光还原法制备石墨烯基平面化微型超级电容器的方法，属平面化微型超级电容器的制备技术领域。该方法为：(1)以氧化石墨烯和光催化剂为原料，利用多种薄膜电极加工方法将原料制备成薄膜电极；(2)在薄膜电极上覆盖上自制的掩模板，利用一定强度的光对氧化石墨烯进行还原和微电极图案化的加工；(3)通过蒸镀的方法在石墨烯电极表面镀上一层集流体；(4)取下掩模板，在电极表面涂上合适的电解质，从而得到高性能、平面化微型超级电容器。该技术具有工艺简单、便于控制、加工成本低、效率高、可大规模生产的优点，可广泛的应用于微机电系统、微型机器人、植入式医疗设备等微纳器件领域，为微纳电子设备的发展奠定了基础。 | ||
| 搜索关键词： | 微型超级电容器 平面化 薄膜电极 氧化石墨烯 电极表面 光还原法 石墨烯基 掩模板 制备 加工 植入式医疗设备 制备技术领域 电解质 微机电系统 微型机器人 光催化剂 微纳器件 原料制备 集流体 纳电子 石墨烯 图案化 微电极 取下 蒸镀 还原 自制 覆盖 应用 | ||
【主权项】：
1.一种光还原法制备石墨烯基平面化微型超级电容器的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)薄膜电极的制备：以氧化石墨烯和光催化剂为原料，在基底上利用多种薄膜电极的制备方法将原料制备成氧化石墨烯、氧化石墨烯/光催化剂复合电极；(2)光还原氧化石墨烯及图案化电极结构的刻画：在薄膜电极上覆盖上自制的平面化掩模板，利用一定强度的光将暴露于光源下的氧化石墨烯还原出任意构型及尺寸的图案化石墨烯电极；(3)集流体的蒸镀：通过蒸镀的方法在石墨烯电极的表面镀上一层集流体；(4)电解质的涂覆及封装：取下掩模板，在电极表面涂上合适的电解质，封装后制备出平面化微型超级电容器。
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