[发明专利]一种全透明BZT薄膜变容管及其制备方法

摘要

本发明公开了一种全透明BZT薄膜变容管及其制备方法，制备方法包括以下步骤：(1)固相烧结法合成BaZr_0.2Ti_0.8O₃靶材；(2)衬底送料；(3)磁控溅射系统调节；(4)磁控溅射合成BaZr_0.2Ti_0.8O₃薄膜；(5)降温取样；(6)涂光刻胶；(7)烘干处理；(8)曝光、显影与后烘；(9)溅射镀膜；(10)退火处理。本发明的新型全透明BZT薄膜变容管的制备方法具有透明性高、调谐率适中、器件稳定性好和成本低廉的特点。

主权项

1.一种全透明BZT薄膜变容管的制备方法，包括以下步骤：(1)固相烧结法合成BaZr0.2Ti0.8O3靶材：按BaZr0.2Ti0.8O3对应元素的化学计量比称取原料BaCO3、TiO2和ZrO2粉体，充分混合后压制成型，置于电炉中于1200～1300℃保温4～10h烧制BaZr0.2Ti0.8O3陶瓷靶材；(2)衬底送料：将清洁干燥的石英玻璃衬底放入磁控溅射系统的真空室中；(3)磁控溅射系统调节：将磁控溅射系统的本底真空抽至1.0×10～3Pa以下，然后加热衬底至600～800℃；(4)磁控溅射合成BaZr0.2Ti0.8O3薄膜：在步骤(3)系统中，使用O2/Ar混合气作为生长气体，O2/Ar比为0.01～0.3，生长气压为0.5～5Pa，溅射功率为50～300W，利用磁控溅射沉积得到BaZr0.2Ti0.8O3薄膜；(5)降温取样：步骤(4)停止后，待衬底温度降至100℃以下时，取出样品；(6)涂光刻胶：步骤(5)结束后，在BaZr0.2Ti0.8O3薄膜表面旋涂光刻胶；(7)烘干处理：对光刻机膜进行前烘，使令光刻胶中的溶剂挥发出来，光刻胶得到固化，温度110～120℃，时间3～8min；(8)曝光、显影与后烘：利用紫外光，采用接触式曝光方式，满足微米级线条的精度要求；(9)溅射镀膜、剥离：使用磁控溅射工艺，在室温下将透明电极溅射沉积到样品表面，使用丙酮超声清洗，将光刻胶剥离掉，衬底表面便留有了具有特定形状的电极图形；(10)退火处理：步骤(9)结束后，对样品进行退火处理，退火温度300～700℃。