[发明专利]一种高强度光子晶体膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种高强度光子晶体膜及其制备方法，属于新材料制备领域。该光子晶体膜将包含单分散纳米微球的分散液滴加在部分干燥的聚合物膜表面，随着溶剂的挥发，在微球自组装为光子晶体的同时将聚合物引入微球缝隙中形成连续结构，一步制得高强度光子晶体膜。该方法不仅过程简单安全，同时可以将光子晶体与生产实践中应用性能优良的聚合物材料直接复合，实现功能性光子晶体膜的制备，方法扩展性强，在显示、传感、装饰等器材上具有广阔的应用前景。

主权项

1.一种高强度光子晶体膜及其制备方法，其特征在于，包括如下工艺步骤：①制备单分散胶体微球，并将其配制成一定浓度的分散液；②将聚合物溶液滴加在基底上，室温下自然干燥一定时间后得到部分干燥的聚合物膜；③将①所配制的分散液滴加在②所得的聚合物膜上，使分散液部分或全部覆盖聚合物膜的表面，并整体放置在一定温度的加热台上，待溶剂完全挥发后即得到高强度光子晶体膜；所述的单分散胶体微球为氧化亚铜，氧化铜，硫化镉，硫化铅，二氧化钛，硫化锌，氧化锌，聚苯乙烯，聚甲基丙烯酸甲酯和二氧化硅中的一种，所述的单分散胶体微球的粒径为100nm～300nm；所述分散液中溶剂为甲醇，乙醇，异丙醇，丙酮，四氢呋喃，乙酸乙酯或水的一种或几种；所述聚合物为聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸酯、聚氨酯、硝基清漆膜的一种或几种，所述聚合物溶液自然干燥的时间为0.5h～24h；所述聚合物溶液的溶剂为甲醇，乙醇，异丙醇，丙酮，四氢呋喃，乙酸乙酯的一种或几种；所述的聚合物溶液的浓度为10～80wt％。