[发明专利]一种光刻投影物镜腔体精密监控装置在审

专利信息
申请号: 201611058915.3 申请日: 2016-11-25
公开(公告)号: CN108107681A 公开(公告)日: 2018-06-01
发明(设计)人: 于淼;崔洋;李佩玥;彭吉;隋永新;杨怀江 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 赵勍毅
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明公开了一种光刻投影物镜腔体精密监控装置,所述光刻投影物镜腔体精密监控装置包括上位机,工控机,腔体环境控制单元,光刻投影物镜,高纯气体供给源,高纯供给回路,高纯供给线路;所述上位机与所述工控机相连,并可向所述工控机发送指令;所述高纯气体供给源输送至所述腔体环境控制单元中;所述腔体环境控制单元与所述光刻投影物镜之间通过高纯供给回路和高纯供给线路进行连接;所述光刻投影物镜上设置有传感器,所述工控机与所述光刻投影物镜之间通过传感器进行信号反馈;所述工控机与所述腔体环境控制单元之间通过控制信号相连接。本发明提供的光刻投影物镜腔体精密监控装置,在线调试气体循环回路,达到稳定气路压力、控制气路污染等效果,能有效降低环境噪音和振动对光刻投影物镜的影响。
搜索关键词: 光刻投影物镜 工控机 精密监控 腔体环境 高纯 腔体 高纯气体 供给回路 供给线路 供给源 上位机 传感器 气体循环回路 发送指令 环境噪音 控制气路 控制信号 气路压力 投影物镜 信号反馈 在线调试 污染
【主权项】:
1.一种光刻投影物镜腔体精密监控装置,其特征在于,包括:上位机,工控机,腔体环境控制单元,光刻投影物镜,高纯气体供给源,高纯供给回路,高纯供给线路;所述上位机与所述工控机相连,并可向所述工控机发送指令;所述高纯气体供给源输送至所述腔体环境控制单元中;所述腔体环境控制单元与所述光刻投影物镜之间通过高纯供给回路和高纯供给线路进行连接;所述光刻投影物镜上设置有传感器,所述工控机与所述光刻投影物镜之间通过传感器进行信号反馈;所述工控机与所述腔体环境控制单元之间通过控制信号相连接。
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