[发明专利]光学膜及其制造方法、偏振片及液晶显示装置有效

专利信息
申请号: 201611060706.2 申请日: 2016-11-25
公开(公告)号: CN106896426B 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: 笠原睦美;居野家浩;洼田慎;赤阪和树;南条崇 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G02B1/14 分类号: G02B1/14;G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 苗堃;赵雁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于提供光学膜及其制造方法、偏振片以及液晶显示装置。本发明的光学膜具有包含粗糙化的表面的改性区域,并含有紫外线吸收剂与抗氧化剂中的至少一方和环烯烃系树脂,在与上述光学膜的表面垂直的切割面,将从上述粗糙化的表面沿厚度方向至0.1t的位置的区域S中的上述紫外线吸收剂与上述抗氧化剂的总计含量设为Ms,将从上述光学膜的中心沿厚度方向至±0.1t的位置的区域C中的上述紫外线吸收剂与上述抗氧化剂的总计含量设为Mc时(将上述光学膜的厚度设为t),Mc/Ms为大于等于0.01且小于1,上述光学膜所含的残留溶剂量为100ppm~2000ppm,且内部雾度值:外部雾度值=1:15~1:1000。
搜索关键词: 光学 及其 制造 方法 偏振 液晶 显示装置
【主权项】:
1.一种光学膜,其具有包含粗糙化的表面的改性区域,所述光学膜包含紫外线吸收剂与抗氧化剂中的至少一方和环烯烃系树脂,在与所述光学膜的表面垂直的切割面,将从所述粗糙化的表面沿厚度方向至0.1t的位置的区域S中的所述紫外线吸收剂与所述抗氧化剂的总计含量设为Ms,将从所述光学膜的中心沿厚度方向至±0.1t的位置的区域C中的所述紫外线吸收剂与所述抗氧化剂的总计含量设为Mc时,Mc/Ms为大于等于0.01且小于1,其中,将所述光学膜的厚度设为t,所述光学膜所含的残留溶剂量为100ppm~2000ppm,并且内部雾度值:外部雾度值=1:15~1:1000。
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