[发明专利]光调制器及光调制系统有效

专利信息
申请号: 201611061614.6 申请日: 2016-11-25
公开(公告)号: CN106371261B 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 王磊;陈福深;陆德坚;朱琨 申请(专利权)人: 北京森馥科技股份有限公司
主分类号: G02F1/21 分类号: G02F1/21;G02F1/225;G02B6/12
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 宋南
地址: 100102 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种光调制器及光调制系统,属于光电子技术领域。该光调制器包括调制芯片,所述调制芯片包括光波导衬底、第一马赫‑曾德尔干涉仪、第二马赫‑曾德尔干涉仪以及按照预设规则设置在第一马赫‑曾德尔干涉仪和第二马赫‑曾德尔干涉仪上的第一电极组和第二电极组。第一马赫‑曾德尔干涉仪和第二马赫‑曾德尔干涉仪对称设置在光波导衬底表面。第一马赫‑曾德尔干涉仪的第一相位差与第二马赫‑曾德尔干涉仪的第二相位差之间的差值满足预设条件。本发明提供的光调制器能够在满足对外加信号无干扰的条件下抑制现有集成光波导调制器所存在的工作点直流漂移问题,有效地保证了采用该光调制器的光调制系统工作的稳定性。
搜索关键词: 调制器 调制 系统
【主权项】:
一种光调制器,其特征在于,包括调制芯片,所述调制芯片包括光波导衬底、第一马赫‑曾德尔干涉仪、第二马赫‑曾德尔干涉仪以及按照预设规则设置在所述第一马赫‑曾德尔干涉仪和第二马赫‑曾德尔干涉仪上的第一电极组和第二电极组;所述第一马赫‑曾德尔干涉仪和第二马赫‑曾德尔干涉仪对称设置在所述光波导衬底表面,所述第一马赫‑曾德尔干涉仪包括第一光波导和第二光波导,所述第一光波导的长度大于所述第二光波导的长度,所述第二马赫‑曾德尔干涉仪包括第三光波导和第四光波导,所述第三光波导的长度大于所述第四光波导的长度;所述第一光波导与所述第二光波导之间的光相位差为第一相位差,所述第三光波导与所述第四光波导之间的光相位差为第二相位差,所述第一相位差与所述第二相位差之间的差值满足预设条件以使得外部干扰导致的相移相互抵消。
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