[发明专利]一种氟化钇光学薄膜红外光学常数计算方法有效
| 申请号： | 201611062442.4 | 申请日： | 2016-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN106679939B | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 刘华松;陈丹;刘丹丹;杨霄;孙鹏;冷健;季一勤 | 申请（专利权）人： | 天津津航技术物理研究所 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01N21/59;G01N21/55 |
| 代理公司： | 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 | 代理人： | 刘东升 |
| 地址： | 300308 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明属于光学薄膜领域，具体涉及一种氟化钇光学薄膜材料在红外波段的光学常数计算方法。本发明通过建立氟化钇薄膜介电常数的四振子复合模型，将测量的基底—薄膜光谱反射率和光谱透射率作为复合目标，利用基底—薄膜物理模型反演计算出薄膜的介电常数，并通过介电常数计算出薄膜的光学常数。本方法对于所有不同沉积方式制备的氟化钇薄膜材料光学常数具有普适性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氟化 光学薄膜 红外 光学 常数 计算方法 | ||
【主权项】：
1.一种YF3光学薄膜红外光学常数计算方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：(1)建立YF3薄膜复合介电常数模型，该复合介电常数模型包含水振动吸收介电常数模型和YF3本征振动吸收介电常数模型；(2)在两个基底上分别制备双面和单面YF3薄膜；(3)测量双面YF3薄膜的光谱透射率和单面YF3薄膜的光谱反射率；(4)根据YF3薄膜的光谱透射率和光谱反射率，反演计算YF3薄膜复合介电常数模型的振子参数，并反演计算YF3薄膜在红外波段的介电常数；(5)根据YF3薄膜在红外波段的介电常数，计算YF3薄膜在红外波段的光学常数，包括折射率n和消光系数k。
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