[发明专利]一种防打火直流离子源在审
| 申请号： | 201611064656.5 | 申请日： | 2016-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN106683970A | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 周国方;谢贵久;张龙赐 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/34 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙)43008 | 代理人： | 周长清;徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种防打火直流离子源，包括离子光学组件，所述离子光学组件包括屏栅、加速栅和防打火栅，所述屏栅、所述加速栅和所述防打火栅依次布置且栅孔彼此对准，所述屏栅上施加正电压，所述加速栅上施加负电压，所述防打火栅接地。本发明具有结构简单、可连续沉积绝缘材料、生产效率高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 打火 直流 离子源 | ||
【主权项】：
一种防打火直流离子源，包括离子光学组件（1），其特征在于：所述离子光学组件（1）包括屏栅（11）、加速栅（12）和防打火栅（13），所述屏栅（11）、所述加速栅（12）和所述防打火栅（13）依次布置且栅孔彼此对准，所述屏栅（11）上施加正电压，所述加速栅（12）上施加负电压，所述防打火栅（13）接地。
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