[发明专利]一种二维通道结构及其制备方法

摘要

本发明公开了一种二维通道结构及其制备方法。本发明采用支架支撑隔离层，获得多种二维通道结构，适用材料范围广；各层的间距精确可控，二维通道结构设计约束少，适用众多图案；适合工业化生产，图案精度高且适用于多种工业化生产方法，制作方法简单，成本低，用途广泛；工艺约束小，适合多种工艺；可以在隔离层上设计电路，通过外接电源或电信号或光源，或通过调制不同入口压强，控制离子或分子走向，达到能量转换或药物合成等目的；图案配合适当的探测手段(如拉曼光谱，荧光谱等)能有效实现单分子探测或其他生物探测及化学探测，可配合的系统广泛。

主权项

一种二维通道结构，其特征在于，所述二维通道结构包括：衬底、支架、隔离层和二维通道；其中，在衬底上生长隔离层和牺牲层，在衬底上形成多层结构，所述多层结构为隔离层和牺牲层的组合，但两层牺牲层不能相邻；根据设计好的二维通道的图形，在多层结构上刻蚀或腐蚀掉二维通道的图形的边缘，所述多层结构中保留下来的部分形成二维通道模板，所述二维通道的侧边缘落在二维通道模板的侧边缘，二维通道模板的边缘的部分或全部构成支架槽；在支架槽内形成支架，在去除牺牲层后支架能够支撑各层隔离层并且能够控制各隔离层之间的间距，如果多层结构的最上一层为牺牲层，则生长一层保护层覆盖最上层的牺牲层，保护层的材料与支架相同或不同；刻蚀或腐蚀支架或二维通道模板的部分区域，形成通口，通口使得牺牲层中要去除部分存在暴露在外的表面；除去牺牲层中需要被去除部分，形成二维通道，二维通道的边缘区域由支架连接，从而形成支撑。