[发明专利]垂直存储器装置有效

专利信息
申请号: 201611067114.3 申请日: 2016-11-23
公开(公告)号: CN106910742B 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 尹石重;李星勋;韩智勋;郑容沅;曹盛纯 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L27/11568;H01L27/11578
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;田野
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种垂直存储器装置及其制造方法。所述装置可以包括栅极线结构,栅极线结构包括在第一方向上堆叠并在第二方向上延伸的栅极线。所述装置也可以包括第一台阶图案结构和第二台阶图案结构,第一台阶图案结构包括从栅极线延伸的延伸栅极线并包括第一台阶层,第二台阶图案结构接触第一台阶图案结构,包括延伸栅极线并包括第二台阶层。第n个延伸栅极线(n为偶数)可以设置在每一个第一台阶层的上部处,第n‑1个延伸栅极线可以设置在每一个第二台阶层的上部处。第n‑1个延伸栅极线的暴露部中的每一个用作焊盘区,焊盘区具有不同的面积。
搜索关键词: 垂直 存储器 装置
【主权项】:
一种垂直存储器装置,所述垂直存储器装置包括:栅极线结构,包括在基本上垂直于基底的顶表面的第一方向上彼此分隔开的多个栅极线,多个栅极线中的每一个在基本上平行于基底的顶表面的第二方向上延伸;垂直沟道结构,在第一方向上延伸穿过多个栅极线;多个延伸栅极线,多个延伸栅极线中的每一个从多个栅极线中的一个在第二方向上的边缘部延伸;第一台阶图案结构,包括多个第一台阶层,多个第一台阶层中的每一个包括多个延伸栅极线中的距基底第n‑1个延伸栅极线和多个延伸栅极线中的距基底第n个延伸栅极线,n是等于或大于2的数字;以及第二台阶图案结构,接触第一台阶图案结构的侧壁并包括多个第二台阶层,多个第二台阶层中的每一个包括多个延伸栅极线中的距基底第n‑1个延伸栅极线和多个延伸栅极线中的距基底第n个延伸栅极线,多个延伸栅极线的第n个延伸栅极线中的每一个在它的在第二方向上的端部处包括凹部,多个延伸栅极线的第n‑1个延伸栅极线中的每一个包括暴露部,所述暴露部被直接在多个延伸栅极线的第n‑1个延伸栅极线中的各个延伸栅极线上方的多个延伸栅极线的第n个延伸栅极线中的一个的凹部暴露,其中,多个延伸栅极线的第n‑1个延伸栅极线的暴露部的面积不同。
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