[发明专利]一种含氟清洗液有效
| 申请号： | 201611070472.X | 申请日： | 2016-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN108121175B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 何春阳;赵鹏;刘兵 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含氟清洗液，其含有：氟化物、有机胺、有机溶剂、水和肼及其衍生物。本发明的清洗液清洗能力强，可有效去除半导体制程过程中等离子刻蚀残留物，尤其是在铜马士革工艺中灰化后的残留物，并且在高转速单片机清洗中对非金属材料(如氮氧化硅和低介质材料)和金属材料(如Cu)等有较小的腐蚀速率，适用于批量浸泡式、批量旋转喷雾式清洗方式，尤其适用于高转速单片旋转式的清洗方式，克服了传统清洗液铜腐蚀抑制的缺陷，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 | ||
【主权项】：
一种含氟清洗液，其特征在于，含有以下组分及含量：a)有机溶剂 10％～75％；b)水 20％～60％；c)氟化物 0.01％～25％；d)有机胺 0.5％～15％；e)肼及其衍生物 0.01％～10％。
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