[发明专利]一种AC耦合电容参考平面的仿真设计方法在审

专利信息
申请号: 201611071785.7 申请日: 2016-11-29
公开(公告)号: CN106529077A 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 刘强进;张长林 申请(专利权)人: 郑州云海信息技术有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 济南信达专利事务所有限公司37100 代理人: 刘继枝
地址: 450000 河南省郑州市*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种AC耦合电容参考平面的仿真设计方法,步骤如下,S1、构建PCB模型,阻抗孔的挖孔尺寸自与pad等大逐次增加2mi l直到电容下方整体挖空;S2、利用Sigrity Power SI提取PCB S参数,然后将S参数导入Hspice进行TDR阻抗仿真,得到TDR阻抗仿真曲线及电容处TDR阻抗仿真曲线;S3、提取470ps处阻抗,得出7种case所对应阻抗值,绘制阻抗变化曲线S4、进行仿真结果分析。本发明的有益效果如下1、通过对比多种椭圆洞挖孔方式,找到阻抗连续性效果最好的挖孔面积,可保证链路的阻抗连续性,可达到信号完整性的目的。2、本发明就具体挖椭圆洞大小进行研究,得出最佳的挖孔面积,该发明可操作性强,易于在设计和制作中实现,可广泛应用于高速PCB设计领域。
搜索关键词: 一种 ac 耦合 电容 参考 平面 仿真 设计 方法
【主权项】:
一种AC耦合电容参考平面的仿真设计方法,其特征在于,具体方法步骤如下:S1、构建PCB模型,阻抗孔的挖孔尺寸自与pad等大逐次增加2mil直到电容下方整体挖空;S2、利用Sigrity Power SI提取PCB S参数,然后将S参数导入Hspice进行TDR阻抗仿真,得到TDR阻抗仿真曲线及电容处TDR阻抗仿真曲线;S3、提取470ps处阻抗,得出7种case所对应阻抗值,绘制阻抗变化曲线:S4、进行仿真结果分析。
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