[发明专利]一种亚波长结构平凸微透镜阵列的制作工艺

摘要

本发明属于微纳光学以及光束整形领域，具体为一种亚波长结构平凸微透镜阵列的制作工艺。本发明基于光刻胶热回流法改进，通过对正性光刻胶材料曝光、显影、刻蚀以及精确计算工艺时长来实现对微透镜形貌的有效控制，在基片上制作出曲率半径更小的、更加密集的微透镜阵列，进而实现微透镜光束准直和光功率耦合增强。本发明具有体积小、结构简单、制作工艺成熟和实验重复性好等优点，且能够增强光源的输出功率、实现对光源的聚焦、准直。

主权项

一种亚波长结构平凸微透镜阵列的制作工艺，包括以下步骤：步骤1、清洗微透镜基片；步骤2、为增强基片的对光刻胶的额粘附性，对其进行预处理即在基片绝缘面涂覆一层有机化合物的粘结助剂；步骤3、依据光刻胶的折射率和所需设计微透镜的尺寸，计算得到光刻胶的厚度，进而旋涂正性光刻胶；步骤4、利用紫外曝光设备对基片进行曝光，全曝光直到光刻胶变形，呈现出微透镜阵列；曝光采用与所需设计微透镜相匹配的掩膜版；步骤5、热熔成型，加热使得步骤4所得光刻胶微透镜阵列由圆柱形结构变为球冠结构；步骤6、将步骤5得到的光刻胶微透镜阵列形状往下刻蚀转移到基片上，采用反应离子刻蚀RIE或感应耦合离子刻蚀ICP，最终得到所需微透镜阵列。