[发明专利]一种新型晶体硅太阳能电池结构及其制造工艺在审

专利信息
申请号: 201611075951.0 申请日: 2016-11-30
公开(公告)号: CN106409925A 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 郭群超;王珺;朱红英 申请(专利权)人: 上海电机学院
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司31227 代理人: 余晨波
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种新型晶体硅太阳能电池结构,包括单晶硅片,在所述单晶硅片一面设有背反射层,在所述单晶硅片的另一面设有绒面和减反射膜结构,在所述单晶硅片的一端设有正电极,单晶硅片的另一端设有负电极,在所述正电极的内侧设有P+掺杂层,在所述负电极的内侧设有N+掺杂层,在所述单晶硅片上还设有若干PN结结构,所述PN结结构包括P+掺杂层和N+掺杂层,所述P+掺杂层和N+掺杂层纵向设置在单晶硅片上,且所述P+掺杂层和N+掺杂层的角度与入射光平行。本发明采用了激光掺杂的办法形成了纵向的PN结,使太阳光直接入射到单晶硅吸收层,有效避免了常规电池的P+掺杂层和N+掺杂层对太阳光的吸收造成的光损失,从而有效提高电池的转换效率。
搜索关键词: 一种 新型 晶体 太阳能电池 结构 及其 制造 工艺
【主权项】:
一种新型晶体硅太阳能电池结构,其特征在于,包括单晶硅片,在所述单晶硅片的一面设有背反射层,在所述单晶硅片的另一面设有绒面和减反射膜结构,在所述单晶硅片的一端设有正电极,单晶硅片的另一端设有负电极,在所述正电极的内侧设有P+掺杂层,在所述负电极的内侧设有N+掺杂层,在所述单晶硅片上还设有若干PN结结构,所述PN结结构包括P+掺杂层和N+掺杂层,所述P+掺杂层和N+掺杂层纵向设置在单晶硅片上,且所述P+掺杂层和N+掺杂层的角度与入射光平行。
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