[发明专利]一种对准测量系统及对准方法有效
申请号: | 201611076246.2 | 申请日: | 2016-11-29 |
公开(公告)号: | CN108121178B | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 程健 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种对准测量系统及对准方法,该系统通过第一光源模块和第二光源模块提供具有不同波长的四种光束,通过光源控制模块控制第一光源模块和第二光源模块中不同光源的开启和关闭,通过成像模块将照射到对准标记上的第一光源模块、第二光源模块发出的光束分别成像在第一参考光栅、第二参考光栅的不同位置上;第一参考光栅和第二参考光栅为四种光束的不同级次衍射光提供不同周期的参考标记;信号采集处理模块采集透过第一参考光栅、第二参考光栅的光强信号并进行处理,以及通过对准操作与管理模块计算对准位置。本发明可以实现对四种波长同时进行测量,获得性能最佳的波长,利用该波长进行该工艺条件下的光刻生产,提高工艺适应性。 | ||
搜索关键词: | 参考光栅 光源模块 波长 对准 对准测量 信号采集处理模块 光源控制模块 工艺适应性 参考标记 成像模块 对准标记 对准位置 工艺条件 管理模块 光刻生产 光强信号 衍射光 光源 成像 照射 测量 采集 | ||
【主权项】:
1.一种对准测量系统,其特征在于,包括:第一光源模块,包括第一光源和第二光源,提供具有不同波长的第一光束和第二光束;第一合束器,对第一光束和第二光束进行合束;第二光源模块,包括第三光源和第四光源,提供具有不同波长的第三光束和第四光束;第二合束器,对第三光束和第四光束进行合束;光源控制模块,控制第一光源模块和第二光源模块中不同光源的开启和关闭;工件台,承载具有对准标记的硅片;第一参考光栅,为第一光束和/或第二光束的不同级次衍射光提供不同周期的参考标记;第二参考光栅,为第三光束和/或第四光束的不同级次衍射光提供不同周期的参考标记;成像模块,将所述第一光源模块、第二光源模块发出的光束照射到所述对准标记上,并收集经所述对准标记反射的光束后成像在所述第一参考光栅、第二参考光栅的不同位置上;信号采集处理模块,采集透过所述第一参考光栅、第二参考光栅的光强信号并进行处理;位置采集与运动控制模块,采集工件台的位置信息;以及对准操作与管理模块,接收信号采集处理模块和位置采集与运动控制模块的信号,计算对准位置;其中,所述成像模块包括第一成像模块、第二成像模块及偏振分束器,所述第一成像模块和第二成像模块关于所述偏振分束器对称设置,所述第一合束器和所述第二合束器发出的光束均经所述偏振分束器后照射所述对准标记,经所述对准标记衍射的光束被所述偏振分束器分束后分别进入所述第一成像模块和所述第二成像模块成像。
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