[发明专利]一种通过优化偏振器方位角提高磁畴成像质量的方法有效

专利信息
申请号: 201611076545.6 申请日: 2016-11-30
公开(公告)号: CN107525769B 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 连洁;李蒙蒙;杨修伦;王晓;宋浩男;石玉君;刘宇翔 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: G01N21/21 分类号: G01N21/21
代理公司: 济南泉城专利商标事务所 37218 代理人: 李桂存
地址: 250100 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种通过优化偏振器方位角提高磁畴成像质量的方法,所述方法通过建立磁畴成像效果(包括信噪比和对比度)与偏振器方位角组合之间的数学模型,对磁畴成像效果与偏振器方位角组合之间的关系进行模拟分析,从而找到最佳的偏振期方位角,提高磁畴成像的质量。
搜索关键词: 一种 通过 优化 偏振 方位角 提高 成像 质量 方法
【主权项】:
一种通过优化偏振器方位角提高磁畴成像质量的方法,其特征在于:包括以下步骤:S01、建立偏振器方位角与磁畴成像效果的评价指标之间的数学模型,磁畴成像效果的评价指标包括图像对比度C和信噪比r,偏振器方位角、与图像对比度C、信噪比r的的关系表达式为:(1)(2)其中参数Bi为磁致反射系数的实部与虚部的组合,其数值可以通过磁光椭偏实验测量得到,参数fi为偏振器方位角正余弦值的组合,i为探测器接收到的光电流,iD为探测器的暗噪声,iS为散粒噪声, VJ为热噪声;再根据C、r与偏振器方位角的关系表达式,建立磁畴成像效果的评价参数y,y与偏振器方位角的关系为:(3),其中Cmax,rmax分别为对比度和信噪比的最优值;S02、根据公式 3对评价参数y与偏振器方位角的组合进行模拟,结合由公式1、2得到的对比度C、信噪比r与偏振器方位角的关系,得到具有较好成像效果的偏振器方位角的设置方式。
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