[发明专利]亚波长尺度微电子结构光学关键尺寸测试分析方法及装置在审
| 申请号： | 201611079665.1 | 申请日： | 2016-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN108120371A | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 邓浩;李雯;陈树强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 王惠 |
| 地址： | 350002 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种亚波长尺度微电子结构光学关键尺寸分析方法，其特征在于，包含步骤：a)将远场超透镜平行置于待测样品表面，用光源照射远场超透镜和待测样品构成的组合结构的远场超透镜表面，测得样品实测零级衍射谱；b)基于矢量分析算法，设定初始的关键尺寸参数，模拟计算得到所述组合结构的模拟零级衍射谱；c)对比上述光谱：如一致，则修改步骤b)中所述关键尺寸参数后重新模拟计算并再对比；如一致，则结合当前的模拟零级衍射谱和所述远场超透镜的参数，计算得到待测样品的关键尺寸参数。本申请还公开了上述方法使用到的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 远场 透镜 尺寸参数 待测样品 零级衍射 微电子结构 模拟计算 组合结构 亚波长 尺度 超透镜表面 测试分析 尺寸分析 方法使用 光源照射 矢量分析 光谱 算法 实测 申请 平行 | ||
【主权项】：
一种亚波长尺度微电子结构光学关键尺寸分析方法，其特征在于，包含以下步骤：a)将远场超透镜平行置于待测样品表面，用光源照射远场超透镜和待测样品构成的组合结构的远场超透镜表面，测得样品实测零级衍射谱；b)基于矢量分析算法，设定初始的关键尺寸参数，模拟计算得到所述组合结构的模拟零级衍射谱；c)将步骤b)得到的所述模拟零级衍射谱与步骤a)得到的所述实测光谱对比：如对比结果不一致，则修改步骤b)中所述关键尺寸参数后，重新模拟计算得到所述组合结构的模拟零级衍射谱，并与步骤a)中测得得到的所述实测光谱对比；如对比结果一致，则结合当前的模拟零级衍射谱和所述远场超透镜的参数，计算得到待测样品的关键尺寸参数。
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