[发明专利]显示基板及制备方法、显示装置有效
申请号: | 201611082981.4 | 申请日: | 2016-11-30 |
公开(公告)号: | CN106784366B | 公开(公告)日: | 2018-09-18 |
发明(设计)人: | 程磊磊;周斌 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开提供了一种显示基板及制备方法、显示装置,该制备方法包括:提供衬底基板;在所述衬底基板上形成像素界定层;对所述像素界定层进行氧化处理,其中,所述像素界定层的远离所述衬底基板的一侧被部分氧化,由此使得所述像素界定层包括靠近所述衬底基板的主体层和远离所述衬底基板的氧化层;对所述像素界定层进行固化成型处理,并对所述像素界定层进行构图工艺以形成像素界定层图案。像素界定层图案通过一次成膜工艺和构图工艺形成,简化了其制备工艺并降低了制备成本,且形成的像素界定层图案内部不存在界面问题,可提高像素界定层图案结构的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 显示 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种显示基板,包括:衬底基板;像素界定层图案,其设置于所述衬底基板上,其中,所述像素界定层图案包括靠近所述衬底基板的本体层和远离所述衬底基板的氧化层,所述本体层和所述氧化层通过对制备所述像素界定层图案的材料层进行部分氧化得到。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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