[发明专利]一种高耐久性薄型化IPS偏光片及其制备方法有效
| 申请号： | 201611085346.1 | 申请日： | 2016-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN106597595B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 姜富方;钱琨;陈敏;罗子安 | 申请（专利权）人： | 深圳市盛波光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 王雨时 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高耐久性薄型化IPS偏光片及其制备方法；该偏光片包括从上到下依次贴合的离型膜、第一内保护膜、PVA膜、第二内保护膜、第一外保护膜；制备该偏光片包括以下步骤：PVA膜通过PVA胶水与第一内保护膜、第二内保护膜进行贴合；再将第二内保护膜与第一外保护膜贴合；最后将离型膜与第一内保护膜通过压敏胶贴合；第一内保护膜选择透湿性低、光学透过率佳的光学膜材，同时又兼具IPS补偿功能，从而实现高耐久性减薄的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耐久性 薄型化 ips 偏光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：步骤A.对第一内保护膜进行亲水处理，所述亲水处理主要系在所述第一内保护膜上涂布亲水涂层，烘干；步骤B.将PVA膜与第二内保护膜、经步骤A处理的第一内保护膜的涂层侧通过PVA胶水粘合，得原光片；步骤C.将构成所述原光片的第二内保护膜与第一外保护膜贴合，得偏光片半成品；步骤D.将构成所述偏光片半成品的第一内保护膜与离型膜通过压敏胶贴合，得高耐久性薄型化IPS偏光片；其中，步骤A中所述亲水涂层的制备方法包括以下步骤：步骤A1.用水稀释亲水涂层本体，得亲水涂层母液；步骤A2.向所述亲水涂层母液中加入助剂，得亲水涂层溶液，所述助剂包括占所述亲水涂层溶液质量分数0.1‑0.2％的流平剂、0.4‑0.6％的润湿剂、0.8％‑1.2％的增稠剂；步骤A3.对所述亲水涂层溶液进行充分搅拌后过滤。
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