[发明专利]一种量子点发光二极管器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201611091220.5 申请日: 2016-12-01
公开(公告)号: CN106505158B 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 张东华;向超宇;张滔;李乐;辛征航 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L51/50
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种量子点发光二极管器件及其制备方法,所述器件依次包括衬底、底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层、电子注入层以及顶电极,其特征在于,所述衬底表面沉积有一减反层,所述减反层是由TaON或其掺杂物和TaOx或其掺杂物组成的叠层结构。本发明通过在衬底表面沉积一由TaON或其掺杂物和TaOx或其掺杂物组成的减反层;根据光的干涉原理,所述减反层可有效减少量子点发光层发出的光的反射,增加光的透射,从而达到增强量子点放光二极管器件的出光效率的目的;并且本发明通过对减反层表面进行微观织构化处理,可进一步增强量子点放光二极管器件的出光效率。
搜索关键词: 一种 量子 发光二极管 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种量子点发光二极管器件,依次包括衬底、底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层、电子注入层以及顶电极,其特征在于,所述衬底与所述底电极之间设有一减反层,所述减反层是由TaON或其掺杂物和TaOx或其掺杂物组成的叠层结构;所述叠层结构中,由TaON或其掺杂物形成的层结构靠近所述衬底一侧。
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