[发明专利]一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置有效
| 申请号： | 201611091709.2 | 申请日： | 2016-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN106371294B | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 张光明;白金超;曲泓铭;于凯 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置。制作方法包括：在衬底基板上依次沉积第一材料层和第二材料层；使用掩膜板，在第二材料层上制作第一刻蚀保护图形；使用第二刻蚀液，对受第一刻蚀保护图形保护的第二材料层进行刻蚀，得到由剩余第二材料层形成的第二刻蚀保护图形；使用第一刻蚀液，对受第二刻蚀保护图形保护的第一材料层进行刻蚀，得到由剩余第一材料层形成的功能图形；第二刻蚀液不能刻蚀第一材料层。本发明能够制作出尺寸更小的功能图形。若功能图形为设置在显示区域中的不透光图形，则可以提高显示装置的透光率；若功能图形设置在显示装置的边框区域，则可以减小边框面积，从而实现窄边结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显示 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上依次沉积第一材料层和第二材料层；使用掩膜板，在所述第二材料层上制作第一刻蚀保护图形；使用第二刻蚀液，对受第一刻蚀保护图形保护的第二材料层进行刻蚀，得到由剩余第二材料层所形成的第二刻蚀保护图形；使用第一刻蚀液，对受第二刻蚀保护图形保护的第一材料层进行刻蚀，得到由剩余第一材料层所形成的功能图形；其中，第二刻蚀液不能刻蚀第一材料层；所述第二材料层被刻蚀的特征尺寸差值大于所述第一材料层被刻蚀的特征尺寸差值。
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