[发明专利]在基板上形成鳍片的方法有效

专利信息
申请号: 201611093056.1 申请日: 2016-12-02
公开(公告)号: CN107785429B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 周雷峻;陈志良;赖志明;杨超源;曾晋沅;曾健庭;萧锦涛;刘如淦;林纬良 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336;H01L29/423
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种在基板上形成鳍片的方法被提出。此方法包括沉积第一鳍片间隔与第二鳍片间隔在具有一硬遮罩的基板的多个位置上,其中第一鳍片间隔包括所需第一鳍片间隔与虚设第一鳍片间隔,且第二鳍片间隔包括所需第二鳍片间隔与虚设第二鳍片间隔。此方法还包括在第一鳍片间隔与第二鳍片间隔之下的基板上形成鳍片。鳍片包括多个虚设鳍片与多个所需鳍片。此方法还包括个别地移除虚设第一鳍片间隔,而不移除虚设第二鳍片间隔,移除虚设第二鳍片间隔,以及移除虚设鳍片。
搜索关键词: 基板上 形成 方法
【主权项】:
一种在一基板上形成鳍片的方法,其特征在于,包括:沉积第一鳍片间隔与第二鳍片间隔在所述基板上的多个位置上;形成所述鳍片在所述第一鳍片间隔与所述第二鳍片间隔之下的所述基板上;在不移除任一所述第二鳍片间隔的情况下,移除虚设第一鳍片上的多个所述第一鳍片间隔;在不移除任一所述第一鳍片间隔的情况下,移除虚设第二鳍片上的多个所述第二鳍片间隔;以及移除所述虚设第一鳍片与所述虚设第二鳍片。
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