[发明专利]一种采用光刻工艺在基材表面制作CD纹的方法有效
| 申请号： | 201611094709.8 | 申请日： | 2016-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN106444278A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 赵博;王滋峰;高长有 | 申请（专利权）人： | 南京京晶光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/30;G03F1/42;G03F7/40;G03F7/20;G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京思创大成知识产权代理有限公司11614 | 代理人： | 王尧 |
| 地址： | 210038 江苏省南京市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种采用光刻工艺在基材表面制作CD纹的方法，包括如下步骤：1)制作掩膜版；2)涂布光刻胶、烘烤；3)曝光、烘烤；4)显影、烘烤。所述方法提供一种效率高、精度高且适用范围广的采用光刻在基材表面制作出CD纹的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 光刻 工艺 基材 表面 制作 cd 方法 | ||
【主权项】：
一种采用光刻工艺在基材表面制作CD纹的方法，其特征在于，包括如下步骤：a)根据所加工CD纹规格不同，按照CD纹面积：掩膜版面积＝1：1设计、制作掩膜版，在掩膜版表面中部形成与所述CD纹相对应的CD纹图形区域，该CD纹图形区域包括透光区域和不透光区域；b)取基材，在基材表面均匀涂布一层光刻胶，涂布完成后进行烘烤；c)取光刻机，将步骤a)所得掩膜板的图形区域放置于与步骤b)处理后所得基材光刻胶之间进行曝光，曝光完成后进行烘烤；d)将步骤c)所得基材进行显影处理，显影完成后进行烘烤,即可在基材表面形成CD纹。
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