[发明专利]近红外响应的硅基雪崩光电探测器及其制作方法在审
申请号: | 201611096081.5 | 申请日: | 2016-12-02 |
公开(公告)号: | CN106449856A | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | 黄建;江海波;李睿智;黄烈云 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0216;H01L31/0232;H01L31/0236;H01L31/18 |
代理公司: | 重庆辉腾律师事务所50215 | 代理人: | 侯懋琪;侯春乐 |
地址: | 400060 重庆*** | 国省代码: | 重庆;85 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出了一种近红外响应的硅基雪崩光电探测器,所述近红外响应的硅基雪崩光电探测器由衬底层、光敏区、雪崩区、保护环、截止环、增透膜、阳极接触层、反射镜层和阴极电极组成;本发明还提出了一种基于前述近红外响应的硅基雪崩光电探测器的制作方法,本发明的有益技术效果是:提供了一种近红外响应的硅基雪崩光电探测器,该探测器能够在不增加衬底层厚度和降低其他性能的条件下,获得较高的近红外响应率。 | ||
搜索关键词: | 红外 响应 雪崩 光电 探测器 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种近红外响应的硅基雪崩光电探测器,其特征在于:所述近红外响应的硅基雪崩光电探测器由衬底层(1)、光敏区(2)、雪崩区(3)、保护环(4)、截止环(5)、增透膜(6)、阳极接触层(7)、反射镜层(8)和阴极电极(9)组成;所述光敏区(2)形成在衬底层(1)上端面的表层中;所述雪崩区(3)形成在衬底层(1)内光敏区(2)的下侧;所述保护环(4)形成在衬底层(1)内光敏区(2)的外围,所述截止环(5)形成在衬底层(1)内保护环(4)的外围;所述增透膜(6)设置在衬底层(1)的上表面上;所述衬底层(1)的下端面为微纳结构,所述微纳结构由如下方式形成:先在SF6和O2氛围下对衬底层(1)的下端面进行等离子刻蚀,然后用氢氟酸、硝酸和醋酸的混合溶液对衬底层(1)的下端面进行腐蚀,从而获得微纳结构;所述阳极接触层(7)形成在衬底层(1)下端面的表层中,阳极接触层(7)的形貌与所述微纳结构匹配;所述反射镜层(8)设置在衬底层(1)的下表面上,所述反射镜层(8)的形貌与所述微纳结构匹配;所述反射镜层(8)的材料采用铝、银或金;所述增透膜(6)上设置有电极孔,电极孔的位置与保护环(4)匹配,阴极电极(9)设置在电极孔内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第四十四研究所,未经中国电子科技集团公司第四十四研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611096081.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的