[发明专利]一种沉钒上层液生产低硅氢氧化铬的方法有效
| 申请号： | 201611096467.6 | 申请日： | 2016-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN106521154B | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 刘海田;崔传海;郭树志;赵华;庄立军;赵秀媛;金绍祥;杨锦铭;李宝玉;曹坤 | 申请（专利权）人： | 中信锦州金属股份有限公司 |
| 主分类号： | C22B3/44 | 分类号： | C22B3/44;C22B34/32 |
| 代理公司： | 锦州辽西专利事务所(普通合伙) 21225 | 代理人： | 王佳佳 |
| 地址： | 121005 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种沉钒上层液生产低硅氢氧化铬的方法，将沉钒上层液调节pH值至碱性，向溶液中加入铝盐，进行沉淀反应后，向溶液中加入硫酸，调节pH值继续沉淀反应，过滤，得到除去杂质硅、铝、钒、铁的铬溶液；将除去杂质的铬溶液加入硫酸调节pH值，加入钠盐还原剂进行还原反应，向溶液中调节pH值进行中和沉淀，过滤、水淋洗，得到低硅含量的氢氧化铬产品。优点是：工艺流程短，操作简单，成本低，铬回收利用率高，实现了含铬废渣综合利用、变废为宝，消除了含铬废渣对环境的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 上层 生产 氢氧化 方法 | ||
【主权项】：
1.一种沉钒上层液生产低硅氢氧化铬的方法，其特征是：具体步骤如下：（1）沉钒上层液用碳酸钠或氢氧化钠调节pH值至8.5～10.5，加热温度控制在60℃～85℃，向溶液中加入铝盐，铝盐中Al含量与沉钒上层液中Si含量的摩尔比为0.25:1～1.5:1，沉淀反应时间为10min～40min，向溶液中加入硫酸，调节pH值至7.5～9.0，继续在60℃～85℃下沉淀反应5min～25min，过滤，得到除去杂质硅、铝、钒、铁的铬溶液；（2）将步骤（1）制得的铬溶液加入硫酸调节pH值至0.5～3.5，加入钠盐还原剂，所述钠盐还原剂为焦亚硫酸钠、亚硫酸钠、亚硫酸氢钠中的至少一种；钠盐还原剂加入量为还原剂中S含量与铬溶液中Cr含量的摩尔比为1.5:1～1.8:1，还原反应时间为10min～30min，向溶液中加入碳酸钠或氢氧化钠调节pH值至6.5～8.5进行中和沉淀，过滤、水淋洗，得到低硅含量的氢氧化铬产品。
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