[发明专利]金属微粒的制造方法在审
申请号: | 201611101720.2 | 申请日: | 2011-03-14 |
公开(公告)号: | CN106735293A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 榎村真一 | 申请(专利权)人: | M技术株式会社 |
主分类号: | B22F9/24 | 分类号: | B22F9/24 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 贾成功 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供粒径得到了控制的金属微粒的制造方法。使用至少2种被处理流动体,其中至少1种被处理流动体为将金属和/或金属化合物在溶剂中溶解了的金属溶液,上述以外的被处理流动体中至少1种被处理流动体为含有还原剂的还原剂流体,在对向配设、可以接近·分离的、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面1、2之间形成的薄膜流体中将上述被处理流动体混合,使粒径得到了控制的金属微粒析出。此时,通过使与导入处理用面1、2之间的金属溶液和还原剂流体的至少任一方相关的特定的条件变化,控制金属微粒的粒径。上述的特定的条件为从由金属溶液和/或还原剂流体的导入速度以及金属溶液和/或还原剂流体的pH组成的组中选择的至少1种。 | ||
搜索关键词: | 金属 微粒 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种金属微粒的制造方法,其特征在于,其为以下的金属微粒的制造方法:使用至少2种被处理流动体,其中至少1种被处理流动体为将至少1种金属和/或金属化合物在溶剂中溶解了的金属溶液,上述以外的被处理流动体中至少1种被处理流体为含有至少1种还原剂的还原剂流体,将上述被处理流动体在对向配设了的、可以接近·分离的、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中混合,使粒径得到了控制的金属微粒析出;其中通过使与导入上述至少2个处理用面之间的金属溶液和还原剂流体的至少任一方相关的特定的条件变化,控制金属微粒的粒径,上述特定的条件为从由上述金属溶液和上述还原剂流体中的至少任一方的导入速度以及上述金属溶液和上述还原剂流体中的至少任一方的pH组成的组中选择的至少1种。
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