[发明专利]阻气叠层、半导体装置、显示元件、显示装置和系统在审
| 申请号： | 201611103021.1 | 申请日： | 2016-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN107017308A | 公开（公告）日： | 2017-08-04 |
| 发明（设计）人： | 新江定宪;植田尚之;中村有希;安部由希子;松本真二;曾根雄司;早乙女辽一;草柳岭秀 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 王增强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种阻气叠层，包括基板和形成在基板的表面中的至少一个上的阻挡层。阻挡层包括含硅和碱土金属的复合氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 阻气叠层 半导体 装置 显示 元件 显示装置 系统 | ||
【主权项】：
一种阻气叠层，该阻气叠层包括：基板；以及形成在基板的表面中的至少一个上的阻挡层，该阻挡层包括含硅和碱土金属的复合氧化物。
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