[发明专利]一种离子印迹化浸渍树脂及其制备方法在审
| 申请号： | 201611103719.3 | 申请日： | 2016-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN106582569A | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 王俊莲;谢美英;刘新宇;王化军 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | B01J20/26 | 分类号： | B01J20/26;B01J20/30 |
| 代理公司： | 北京市广友专利事务所有限责任公司11237 | 代理人： | 张仲波 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种离子印迹化浸渍树脂制备方法，属于离子印迹材料制备技术领域。该方法是将离子印迹技术与浸渍树脂制备技术相结合，制备步骤包括(1)将配体溶于有机溶剂中，加入模板离子，生成模板离子配合物；(2)加入大孔树脂基底，静置1‑500h使大孔树脂充分溶胀，用旋转蒸发仪除去有机溶剂，得到负载模板离子配合物的浸渍树脂；(3)用矿物酸(如HCl、HNO3、H2SO4)、EDTA或硫脲等淋洗剂将模板离子去除，干燥，得到离子印迹化浸渍树脂。该离子印迹材料制备方法简单、高效、经济，大孔树脂基底和配体的性能可分别调控、任意匹配。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 印迹 浸渍 树脂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种离子印迹化浸渍树脂制备方法，其特征在于：具体步骤如下：(1)将配体溶于有机溶剂中，加入模板离子，生成模板离子配合物；(2)向步骤(1)所得模板离子配合物的有机溶液中加入大孔树脂基底，静置1‑500h，用旋转蒸发仪除去有机溶剂；(3)向步骤(2)所得的负载模板离子配合物的大孔树脂基底中加入淋洗剂将模板离子去除，干燥。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科技大学，未经北京科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611103719.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
