[发明专利]一种基于多光谱测量的亚像元温度分布测量装置及方法有效
| 申请号： | 201611110702.0 | 申请日： | 2016-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN106556462B | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 符泰然;熊叶寒;姜培学 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G01J5/00 | 分类号： | G01J5/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100084 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于多光谱测量的亚像元温度分布测量装置及方法，包括：朝向待测点的多光谱测量设备和辐射光源；多光谱测量设备用于在辐射光源关闭状态下测量待测点在多个不同波长下的第一辐射强度，在辐射光源开启状态下测量待测点在多个不同波长下的第二辐射强度；其中，第二辐射强度为辐射光源发出的经待测点反射的辐射强度和待测点的辐射强度之和；其中，待测点的亚像元温度分布是根据第一辐射强度、第二辐射强度和辐射光源在多个不同波长下的辐射强度确定的。本发明提供的技术方案，可以快速确定待测点区域内的亚像元温度分布，实现了未知发射率情形下的辐射温度非接触在线测量，可以适用于大温度梯度、高瞬态响应、长时间连续测量。 | ||
| 搜索关键词： | 待测点 辐射 辐射光源 多光谱测量 温度分布 亚像元 波长 测量装置 测量 大温度梯度 高瞬态响应 开启状态 快速确定 强度确定 时间连续 在线测量 发射率 非接触 反射 | ||
【主权项】：
一种基于多光谱测量的亚像元温度分布测量装置，其特征在于，所述装置包括：朝向待测点的多光谱测量设备和辐射光源；所述多光谱测量设备，用于在所述辐射光源关闭状态下测量待测点在多个不同波长下的第一辐射强度，在所述辐射光源开启状态下测量待测点在所述多个不同波长下的第二辐射强度；其中，所述第二辐射强度为所述辐射光源发出的经待测点反射的辐射强度和所述待测点的辐射强度之和；其中，所述待测点的亚像元温度分布是根据所述第一辐射强度、所述第二辐射强度和所述辐射光源在所述多个不同波长下的辐射强度确定的；所述多个不同波长均为所述辐射光源的光谱范围内的波长。
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