[发明专利]用于除去有机硅树脂的组合物、使用其薄化基材和制造半导体封装体的方法及使用其的系统有效

专利信息
申请号: 201611111478.7 申请日: 2016-12-02
公开(公告)号: CN107034028B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 姜仁求;金圣培;崔百洵;金秀莲;洪荣泽;金相泰;李京浩;洪亨杓;金成民 申请(专利权)人: 三星电子株式会社;东友精细化工有限公司
主分类号: C11D1/62 分类号: C11D1/62;C11D3/28;C11D3/32;H01L21/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 金拟粲
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文中公开用于除去有机硅树脂的组合物、使用其薄化基材和制造半导体封装体的方法及使用其的系统。更特别地,本文中公开的是用于除去有机硅树脂的组合物,所述组合物包括杂环溶剂和由式(R)4N+F表示的氟化烷基铵盐,其中R为C1‑C4直链烷基。通过使用所述组合物可有效地除去有机硅树脂,因为所述组合物对于在半导体基材的背面研磨、背面电极形成等工艺中残留在半导体基材上的有机硅树脂呈现优异的分解速率。
搜索关键词: 用于 除去 有机 硅树脂 组合 使用 基材 制造 半导体 封装 方法 系统
【主权项】:
用于除去有机硅树脂的组合物,所述组合物包括:杂环溶剂;和由式(1)表示的氟化烷基铵盐:(R)4N+F‑   式(1)其中R为C1‑C4直链烷基。
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