[发明专利]鳍式场效应晶体管结构及其制造方法有效
申请号: | 201611116263.4 | 申请日: | 2016-12-07 |
公开(公告)号: | CN107039435B | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 邱意为;许立德;黄仲帆;朱志祥 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/092 | 分类号: | H01L27/092;H01L21/8238 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 描述了包括衬底、鳍、绝缘物、至少一个栅极堆叠件和应变材料部分的一种鳍式场效应晶体管。绝缘物设置在衬底的沟槽中和鳍之间。鳍的上部高于绝缘物的顶面且上部具有基本上垂直的轮廓,而鳍的下部低于绝缘物的顶面且下部具有锥形轮廓。至少一个栅极堆叠件设置在鳍上方和在绝缘物上。应变材料部分设置在至少一个栅极堆叠件的相对两侧上。本发明的实施例还涉及场效应晶体管结构及其制造方法。 | ||
搜索关键词: | 场效应 晶体管 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种鳍式场效应晶体管,包括:衬底,具有沟槽和在所述沟槽之间的鳍,其中,所述鳍包括上部和下部;绝缘物,设置在所述衬底的所述沟槽中和所述鳍之间,其中,所述鳍的所述上部高于所述绝缘物的顶面且所述上部具有基本上垂直的轮廓,而所述鳍的所述下部低于所述绝缘物的所述顶面且所述下部具有锥形轮廓;至少一个栅极堆叠件,设置在所述鳍上方以及设置在所述绝缘物上;以及应变材料部分,设置在所述至少一个栅极堆叠件的相对两侧上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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