[发明专利]一种具有倾斜端面的裸露型光纤阵列的制作方法及其基板有效

专利信息
申请号: 201611119805.3 申请日: 2016-12-08
公开(公告)号: CN106707416B 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 李鹏青;程琳 申请(专利权)人: 武汉创联智光科技有限公司
主分类号: G02B6/36 分类号: G02B6/36
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 薛玲
地址: 430200 湖北省武汉市东湖新技术开发区关山*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种具有倾斜端面的裸露型光纤阵列的制作方法及其基板,基板包括平台结构、刻槽结构、压力分散结构。光纤阵列的制作方法如下:1.将光纤一端的包覆层剥离干净,用酒精清洁裸光纤表面的残渣,形成裸光纤部分。2.将裸光纤放入刻槽结构的刻槽中,且裸光纤的端面从压力分散结构伸出。3.将盖板压在刻槽结构上方的裸光纤区域。4.将紫外固化胶从刻槽结构与平台结构的交界区域滴入,用紫外灯对紫外胶进行固化。5.将固化好的光纤阵列的端面进行角度研磨加工,形成特定角度的光学斜面。本发明可克服光纤裸露型光纤阵列在制作过程中前端裸露光纤容易发生断裂、崩损的问题,显著提高光纤裸露型光纤阵列制作的成品率,减少材料损耗,降低制作成本。
搜索关键词: 光纤阵列 刻槽结构 裸光纤 裸露 制作 压力分散结构 平台结构 光纤 倾斜端 基板 固化 裸光纤表面 紫外固化胶 光纤一端 光学斜面 减少材料 交界区域 角度研磨 制作过程 盖板 包覆层 成品率 紫外灯 紫外胶 滴入 放入 刻槽 断裂 酒精 剥离 伸出 清洁 加工
【主权项】:
1.一种具有倾斜端面的裸露型光纤阵列的基板,其特征在于:包括盖板(3)、平台结构(21)、刻槽结构(22)和在研磨过程中与研磨盘直接接触作为第一受力点的压力分散结构(23),所述刻槽结构(22)表面有刻槽,所述刻槽结构(22)位于平台结构(21)和压力分散结构(23)之间,使得放入所述刻槽结构(22)的刻槽中的裸光纤(12)的端面(13)从所述压力分散结构(23)伸出,所述刻槽结构(22)上表面高于压力分散结构(23)和平台结构(21)的上表面,使得所述压力分散结构(23)与其上方的裸光纤(12)之间有一定的间隙,盖板(3)用于压在所述刻槽结构(22)上方的裸光纤区域。
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