[发明专利]一种近场模拟器有效
申请号: | 201611121530.7 | 申请日: | 2016-12-08 |
公开(公告)号: | CN106685484B | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 李志平;武建华;王正鹏;霍鹏 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | H04B5/00 | 分类号: | H04B5/00;H04B17/00;H04B11/00;G01S13/02 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 杨学明;顾炜 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种近场模拟器,基于紧缩场偏焦控制,实现近场的球面波前模拟,通过连续调整激励源对反射面的偏焦照射来实现不同距离处等效球面波源连续模拟,目的是紧缩化地实现大距离范围覆盖的近场电磁环境,用于无线电系统的近场模拟测试。该近场模拟器可工作于更为可控的自然环境或电磁环境内,有利于改善电磁模拟调试的试验条件,降低试验成本,提高试验效率。优于受自然气候影响较大的外场。该近场模拟器可模拟工作于更大范围的等效球面波源位置,利于动态可变配置试验所需的近场波前,有利于模拟测试所需更为逼真和多变的近场电磁环境。优于直接控制收发距离的近场。 | ||
搜索关键词: | 一种 近场 模拟器 | ||
【主权项】:
一种近场模拟器,其特征在于:该近场模拟器主要由激励源、紧缩场反射面、激励源偏焦控制系统和等效电磁环境静区组成,所述的激励源,用于系统最终在等效静区内形成近场球面波时提供初始波源;所述的紧缩场反射面,是精密机械加工的曲面,通常中心实体部分为旋转抛物面或球面,边缘通常锯齿或卷曲处理,用以校正激励波前转换为所期望的波前,用于将激励源发出的电磁波反射后在较小距离内紧缩的在固定区域形成所需的远场平面波或近场球面波波前;所述的激励源偏焦控制系统,是由机械电子设备调整激励源对反射面的照射位置,以控制等效激励源的位置,用于在静区模拟远场平面波、不同位置等效波源的近场球面波前时所需激励源在轴向和横向的位置调整;所述的等效电磁环境静区,是由激励源照射反射面形成的电磁场区域,用于无线电系统的发射链路测试、接收链路测试和收发链路测试以及近场电磁散射测试。
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