[发明专利]微热导检测器及其制备方法在审
申请号: | 201611123850.6 | 申请日: | 2016-12-08 |
公开(公告)号: | CN108178122A | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 冯飞;田博文;侯磊;李昕欣 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | B81B7/04 | 分类号: | B81B7/04;B81C1/00;G01N30/66 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 罗泳文 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种微热导检测器及制备方法:所述微热导检测器具有三明治结构,从下而上依次是玻璃衬底、带微沟槽的SOI硅片和带微沟道的玻璃;交叉网状结构制作于SOI硅片表面并悬浮于微通道之中,其结构包括SOI硅片的顶层硅、由两层氧化硅/氮化硅薄膜所保护的热敏电阻;关键工艺包括刻蚀SOI硅片的衬底硅、埋氧层(或埋氧层及第二介质层)释放交叉网状结构,通过两次静电键合完成微热导检测器芯片的制作。本发明以SOI硅片顶层硅为热敏电阻的主要支撑层,与高掺杂硅相比较,顶层硅中晶格完整,缺陷少,作为支撑层具有更好的机械强度,且其厚度可根据性能要求灵活选择。本发明减小了交叉网状结构的形变,大大提高了热敏电阻支撑结构的强度及稳定性。 | ||
搜索关键词: | 微热 检测器 热敏电阻 网状结构 顶层硅 埋氧层 支撑层 制备 氧化硅/氮化硅 检测器芯片 三明治结构 玻璃 关键工艺 静电键合 灵活选择 性能要求 支撑结构 衬底硅 高掺杂 介质层 微沟槽 微沟道 微通道 形变 衬底 减小 晶格 刻蚀 两层 制作 薄膜 悬浮 释放 | ||
【主权项】:
1.一种微热导检测器,其特征在于:包括:SOI硅片,包括衬底硅、埋氧层以及顶层硅,所述SOI硅片中形成有微沟槽结构;由顶层硅‑第一介质薄膜‑热敏电阻‑第二介质薄膜形成的图形化堆叠结构,悬挂于所述SOI硅片的微沟槽结构中;带有微沟道的玻璃片,键合于所述SOI硅片的顶层硅,且使得所述图形化堆叠结构位于所述微沟道内;玻璃衬底,键合于所述SOI硅片的衬底硅。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611123850.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:触诊探头及其制造方法
- 下一篇:一种新型PDMS微流控芯片键合方法