[发明专利]X射线分光分析设备和元素分析方法在审
| 申请号： | 201611123986.7 | 申请日： | 2016-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN106855523A | 公开（公告）日： | 2017-06-16 |
| 发明（设计）人： | 佐藤贤治;西村晓弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种X射线分光分析设备和元素分析方法，该X射线分光分析设备可通过分光法以高灵敏度测量液体和粉末等的组成与位置无关地呈均匀的试样的组成。X射线分光分析设备包括激发源，其利用激发束照射试样表面的预定照射区域以生成特征X射线；分光晶体，其面向照射区域；狭缝，其设置在照射区域和分光晶体之间，狭缝与照射区域和分光晶体的预定晶面平行；X射线线性传感器，其包括沿与狭缝垂直的方向排列的线状检测元件，检测元件各自具有与狭缝平行的方向上的长度。通过针对各波长检测来自照射区域的不同线状区域的特征X射线，可进行灵敏度比利用激发束照射点状照射区域的传统X射线分光分析设备的灵敏度高的分析。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 分光 分析 设备 元素 方法 | ||
【主权项】：
一种X射线分光分析设备，包括：a)激发源，其被配置为利用激发束来照射试样的表面的预定照射区域，以生成特征X射线；b)分光晶体，其被设置为面向所述照射区域；c)狭缝，其设置在所述照射区域和所述分光晶体之间，其中所述狭缝与所述照射区域和所述分光晶体的预定晶面平行；以及d)X射线线性传感器，其包括沿与所述狭缝垂直的方向排列的线状检测元件，其中所述检测元件各自具有与所述狭缝平行的方向上的长度。
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