[发明专利]一种缓解第一镜表面沉积的方法在审
申请号: | 201611126553.7 | 申请日: | 2016-12-09 |
公开(公告)号: | CN106782678A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 彭姣;鄢容;陈俊凌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
主分类号: | G21B1/25 | 分类号: | G21B1/25;G21B1/23 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230031 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种缓解第一镜表面沉积的方法,首先将第一镜样品组装至每个防护管道内,并将所有防护管道紧密地固定到安装板上,此外还有一组防护管道的第一镜样品作为对比也固定在安装板上,安装板与支架连接,支架安装至EAST的窗口平板上;然后将挡板通过EAST窗口法兰进行密封,保护防护管道前端;最后壁处理时关闭挡板,主等离子体放电时打开挡板。本发明结构稳定,可普遍使用在各聚变装置中且能够长期辐照。 | ||
搜索关键词: | 一种 缓解 第一 表面 沉积 方法 | ||
【主权项】:
一种缓解第一镜表面沉积的方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤A:将第一镜样品组装至每个防护管道内,并将所有防护管道紧密地固定到安装板上,此外还有一组防护管道的第一镜样品作为对比也固定在安装板上,将安装板与支架连接,并将支架安装至EAST的窗口下表面;步骤B:挡板通过EAST窗口法兰进行密封,保护防护管道前端;步骤C:壁处理时关闭挡板,主等离子体放电时打开挡板。
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