[发明专利]一种Pd离子印迹硅胶吸附剂的制备方法及其应用有效
| 申请号： | 201611128464.6 | 申请日： | 2016-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN106700088B | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 李耀威;杨明珠;邵华森 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | C08G83/00 | 分类号： | C08G83/00;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 胡辉 |
| 地址： | 510631 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种Pd离子印迹硅胶吸附剂的制备方法及其应用。其制备方法包括以下步骤：1）将Pd(II)盐和经酸活化后的硅胶在醇溶剂中分散；2）将含氯硅烷与KI反应后，再加入2‑氨基噻唑在碱作用下反应；3）把步骤1）与步骤2）所得的产物混合反应；4）将步骤3）的产物过滤、洗涤，洗涤产物经提取后再洗涤至中性，干燥后制成。同时也公开了这种吸附剂在吸附Pd离子中的应用。本发明利用离子印迹技术，以硅胶为基质，3‑氯丙基三乙氧基硅烷为交联剂，2‑氨基噻唑为功能单体，通过聚合反应制备Pd离子印迹聚合物，并应用于吸附Pd方面的研究，具有机械稳定性高、吸附选择性好、粒径分布均匀、利于模板离子的识别与洗脱且可减少“包埋”现象等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 离子印迹 硅胶吸附剂 氨基噻唑 应用 硅胶 吸附 洗涤 氯丙基三乙氧基硅烷 离子印迹聚合物 机械稳定性 吸附选择性 产物混合 功能单体 含氯硅烷 聚合反应 粒径分布 模板离子 洗涤产物 醇溶剂 碱作用 交联剂 酸活化 吸附剂 包埋 基质 洗脱 离子 过滤 研究 | ||
【主权项】：
1.一种Pd离子印迹硅胶吸附剂的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：1)将Pd(II)盐和经酸活化后的硅胶在醇溶剂中分散；2)将含氯的硅氧烷与KI反应后，再加入2‑氨基噻唑在碱性条件下反应；3)把步骤1)与步骤2)所得的产物混合反应；4)将步骤3)的产物过滤、洗涤，洗涤产物经提取后再洗涤至中性，干燥后制得Pd(II)离子印迹硅胶吸附剂；步骤1)中，所述Pd(II)盐与经酸活化后的硅胶其质量比为1:(6～7)；步骤2)中，所述含氯的硅氧烷与KI的用量比为1mL:1g；所述含氯的硅氧烷与2‑氨基噻唑的用量比为1mL:(0.8～1)g；步骤2)中，所述含氯的硅氧烷为3‑氯丙基三乙氧基硅烷或氯甲基三乙氧基硅烷。
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