[发明专利]减小充电设备中的磁场变化在审
申请号: | 201611129216.3 | 申请日: | 2015-03-18 |
公开(公告)号: | CN107040016A | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | 杨松楠;肖斌;J.科拉蒂克雷纳拉彦;S.卡斯图里;E.埃克豪利 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | H02J7/00 | 分类号: | H02J7/00;H02J50/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 李雪娜,姜甜 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及减小充电设备中的磁场变化。系统和方法可以提供具有限定充电区域的凹形状的充电平台的无线充电设备。无线充电设备可以包括三维发射器线圈,和至少一个附加发射器线圈,其在凹形状的充电平台内具有不均匀的间距,以减小与三维发射器线圈相关联的磁场变化。 | ||
搜索关键词: | 减小 充电 设备 中的 磁场 变化 | ||
【主权项】:
一种无线充电系统,包括:充电物理平台,其限定充电空间;以及三维发射器线圈,其被布置在充电物理平台内,其中所述三维发射器线圈包括用以承载电流的多个线圈匝,所述多个线圈匝以不均匀的间距被间隔;其中所述充电物理平台是凹的物理充电平台,并且所述不均匀的间距控制在与凹的物理充电平台的表面正交的方向上的与三维发射器线圈相关联的磁场变化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611129216.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。