[发明专利]蒸发源有效
| 申请号： | 201611129547.7 | 申请日： | 2016-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN106399947B | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 张鑫狄;崔伟;付文悦;张峰杰;孙俊民 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种蒸发源，属于真空蒸镀技术领域，其可至少部分解决现有的蒸发源产生的蒸气均匀性差的问题。本发明的蒸发源包括：腔室，其分为多个区域，每个区域中设有至少一个出气孔以及至少一个气压传感器；多个与所述腔室相连的坩埚，每个所述坩埚用于向腔室的至少一个区域供应蒸气。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 | ||
【主权项】：
1.一种蒸发源，其特征在于，包括：腔室，其分为多个区域，每个区域中设有至少一个出气孔以及至少一个气压传感器；多个与所述腔室相连的坩埚，每个所述坩埚用于向腔室的多个区域提供蒸气；所述坩埚和与其对应的每个区域间通过一条输气管相连；所述腔室内部通过隔墙分割为多个互不连通的隔间，每个所述隔间为一个区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611129547.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
