[发明专利]基于二氰基吡嗪和二氰基苯并吡嗪衍生物的给‑受体化合物及用于制备的电致发光器件在审
| 申请号： | 201611137818.3 | 申请日： | 2016-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN107602540A | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 王悦 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | C07D403/10 | 分类号： | C07D403/10;C07D241/24;C07D401/10;C07D413/10;C07D403/14;C07D417/10;C07D241/42;C07D403/04;C07D417/04;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
| 代理公司： | 长春吉大专利代理有限责任公司22201 | 代理人： | 刘世纯,王恩远 |
| 地址： | 130012 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 一类基于二氰基吡嗪和二氰基苯并吡嗪衍生物的给‑受体化合物发光材料及用于制备的电致发光器件，属于有机电致发光技术领域。二氰基吡嗪和二氰基苯并吡嗪衍生物作为良好的电子受体核，可以通过铃木反应或乌尔曼反应连接不同的给体基团合成一系列电子给受体型的有机小分子发光材料，材料具有较大的刚性平面骨架、良好的热稳定性和较高的TADF荧光量子产率，而且可以实现深红光和近红外光发射，用于制备深红光和近红外电致发光器件，同时具有合成简单﹑产率高﹑提纯容易等特点。所述的电致发光器件带有一个或多个发光层，在发光层中至少有一层含有一种或多种本发明所述的化合物，进一步，本发明所述的化合物以0.1～100.0％的质量掺杂于主体材料中制备发光层。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 二氰基吡嗪 二氰基苯 衍生物 受体 化合物 用于 制备 电致发光 器件 | ||
【主权项】：
一种基于二氰基吡嗪和二氰基苯并吡嗪衍生物的有机发光材料，其分子结构式如下之一所示：其中R为电子给体取代基团，其结构如下之一所示，R1选自H、F、Cl、含有1‑10个碳的直链或支链烷基、含有1‑10个碳的直链或支链烷氧基其中之一；R2选自H、F、Cl、含有1‑10个碳的直链或支链烷基、含有1‑6个碳的直链或支链烷氧基其中之一。
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