[发明专利]一种改进的G1F结构触摸屏制作方法

摘要

本发明公开了一种改进的G1F结构触摸屏制作方法，包括以下步骤盖板玻璃的CNC精雕、强化印刷、镀ITO膜、干蚀刻法蚀刻ITO、印刷银线，ITO Film的ITO膜经裁切、干蚀刻法蚀刻ITO、印刷银线、激光蚀刻银线、贴OCA胶等。本发明改进方法可提升生产效率较低，降低废水排放，解决ITO走线蚀刻问题，提升产品良率和性能。

主权项

一种改进的G1F结构触摸屏制作方法，其特征在于：包括盖板玻璃的制作工序、ITO film的制作工序、玻璃盖板和ITO film的粘接工序，其中：盖板玻璃的制作工序按以下步骤：（1.1）、将片玻璃切割小片玻璃：将大片玻璃根据制作产品的尺寸，切割成小片玻璃插入机架上；（1.2）、精雕工序：用玻璃CNC精雕机上根据产品的形状进行开孔，开槽，倒圆弧，使产品的加工精度保持在正负30微米；（1.3）、强化工序：将清洗后的精雕产品，投入强化炉，进行预热，以减少产品强化的翘曲度；再在温度为420度的硝酸钾的强化槽强化，使盖板玻璃形成符合产品要求的应力层；（1.4）、印刷工序：强化后的产品，洗净干燥后进行印刷一层黑色油墨，覆盖了包括盖板玻璃边框的绑定区域；黑色油墨厚度控制在5微米以下； （1.5）、IT0镀膜工序：在盖板玻璃上均匀镀导电ITO，电阻值控制在50欧姆；（1.6）、蚀刻ITO工序：采用蚀刻膏工艺对镀有ITO的盖板玻璃进行蚀刻，形成ITO透明导电线路；（1.7）、印刷银线工序：在盖板玻璃上印刷银线，把ITO的导电线路通过银线导出，经过烤箱进行烘干，温度在140—160度，得到加工完成的盖板玻璃；ITO film的制作工序按以下步骤：（2.1）、ITO膜裁切工序：把ITO膜切成大片400mm*500mm；（2.2）、蚀刻ITO工序：采用蚀刻膏工艺对ITO膜进行蚀刻，形成ITO透明导电线路；（2.3）、印刷银线工序：采用CCD印刷机通过抓取ITO靶标进行CCD定位，精度控制在25微米；在ITO膜上印刷银线，把ITO的导电线路通过银线导出；（2.4）、激光蚀刻银线工序：通过激光蚀刻机，把银线切割成细银线，规格是线宽线距50微米；（2.5）、贴OCA胶工序：在ITO膜上贴上120微米的OCA胶，形成ITO film；玻璃盖板和ITO film粘接工序按以下步骤：（3.1）、将蚀刻印刷好的玻璃盖板和贴好OCA的ITO film通过贴合设备贴合，贴合时控制贴合平整度；（3.2）、FPC绑定工序：将ACF粘贴到FPC上，FPC分别和玻璃盖板侧的银线，ITO膜侧的银线通过热压机热压的形式进行FPC的绑定；（3.3）、电测外观检查工序：在三波长的灯光下对产品依据产品出货规范进行检查，最终制作出完整的G1F结构电容式触摸屏。